© 2021 The Authors. Advanced Materials published by Wiley-VCH GmbH.
Détails bibliographiques
| Publié dans: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 34(2022), 25 vom: 26. Juni, Seite e2103907
|
|---|
| Auteur principal: |
Lau, Chit Siong
(Auteur) |
|---|
| Autres auteurs: |
Chee, Jing Yee,
Cao, Liemao,
Ooi, Zi-En,
Tong, Shi Wun,
Bosman, Michel,
Bussolotti, Fabio,
Deng, Tianqi,
Wu, Gang,
Yang, Shuo-Wang,
Wang, Tong,
Teo, Siew Lang,
Wong, Calvin Pei Yu,
Chai, Jian Wei,
Chen, Li,
Zhang, Zhong Ming,
Ang, Kah-Wee,
Ang, Yee Sin,
Goh, Kuan Eng Johnson |
|---|
| Format: | Article en ligne
|
|---|
| Langue: | English |
|---|
| Publié: |
2022
|
|---|
| Accès à la collection: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|
|---|
| Sujets: | Journal Article
Coulomb blockade
HfO2
atomic layer deposition
high-k dielectric
transition metal dichalcogenides |
|---|