© 2021 The Authors. Advanced Materials published by Wiley-VCH GmbH.
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 34(2022), 25 vom: 26. Juni, Seite e2103907
|
|---|
| 1. Verfasser: |
Lau, Chit Siong
(VerfasserIn) |
|---|
| Weitere Verfasser: |
Chee, Jing Yee,
Cao, Liemao,
Ooi, Zi-En,
Tong, Shi Wun,
Bosman, Michel,
Bussolotti, Fabio,
Deng, Tianqi,
Wu, Gang,
Yang, Shuo-Wang,
Wang, Tong,
Teo, Siew Lang,
Wong, Calvin Pei Yu,
Chai, Jian Wei,
Chen, Li,
Zhang, Zhong Ming,
Ang, Kah-Wee,
Ang, Yee Sin,
Goh, Kuan Eng Johnson |
|---|
| Format: | Online-Aufsatz
|
|---|
| Sprache: | English |
|---|
| Veröffentlicht: |
2022
|
|---|
| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|
|---|
| Schlagworte: | Journal Article
Coulomb blockade
HfO2
atomic layer deposition
high-k dielectric
transition metal dichalcogenides |
|---|