Soft X-ray varied-line-spacing gratings fabricated by near-field holography using an electron beam lithography-written phase mask

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 26(2019), Pt 5 vom: 01. Sept., Seite 1782-1789
1. Verfasser: Lin, Dakui (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Liu, Zhengkun, Dietrich, Kay, Sokolov, Andréy, Sertsu, Mewael Giday, Zhou, Hongjun, Huo, Tonglin, Kroker, Stefanie, Chen, Huoyao, Qiu, Keqiang, Xu, Xiangdong, Schäfers, Franz, Liu, Ying, Kley, Ernst Bernhard, Hong, Yilin
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2019
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Journal of synchrotron radiation
Schlagworte:Journal Article electron beam lithography fabrication near-field holography soft X-ray varied-line-spacing grating spectrometer