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Optical constants of sputtered beryllium thin films determined from photoabsorption measurements in the spectral range 20.4-250 eV
von
Svechnikov, Mikhail
Veröffentlicht in:
Journal of synchrotron radiation
(2020)
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,
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Soft X-ray varied-line-spacing gratings fabricated by near-field holography using an electron beam lithography-written phase mask
von
Lin, Dakui
Veröffentlicht in:
Journal of synchrotron radiation
(2019)
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beryllium
electron beam lithography
fabrication
free-standing thin film
near-edge X-ray absorption fine-structure spectroscopy
near-field holography
optical constants
photoabsorption
refractive index
soft X-ray varied-line-spacing grating
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