3D Tailored Crumpling of Block-Copolymer Lithography on Chemically Modified Graphene

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 8 vom: 24. Feb., Seite 1591-6
Auteur principal: Kim, Ju Young (Auteur)
Autres auteurs: Lim, Joonwon, Jin, Hyeong Min, Kim, Bong Hoon, Jeong, Seong-Jun, Choi, Dong Sung, Li, Dong Jun, Kim, Sang Ouk
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2016
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article 3D block copolymers grapheme instability self-assembly