3D Tailored Crumpling of Block-Copolymer Lithography on Chemically Modified Graphene

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 8 vom: 24. Feb., Seite 1591-6
1. Verfasser: Kim, Ju Young (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Lim, Joonwon, Jin, Hyeong Min, Kim, Bong Hoon, Jeong, Seong-Jun, Choi, Dong Sung, Li, Dong Jun, Kim, Sang Ouk
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article 3D block copolymers grapheme instability self-assembly