Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Template

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 29 vom: 05. Aug., Seite 4364-70
Auteur principal: Sun, Zhiwei (Auteur)
Autres auteurs: Chen, Zhenbin, Zhang, Wenxu, Choi, Jaewon, Huang, Caili, Jeong, Gajin, Coughlin, E Bryan, Hsu, Yautzong, Yang, XiaoMin, Lee, Kim Y, Kuo, David S, Xiao, Shuaigang, Russell, Thomas P
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2015
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article directed self-assembly lamellar block copolymers nanoimprint photoresist templates salt complexes solvent vapor annealing