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    Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Template
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    Solvent-assisted directed self-assembly of spherical microdomain block copolymers to high areal density arrays
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    Fabrication of silicon oxide nanodots with an areal density beyond 1 teradots inch(-2)
    von Xu, Ji
    Veröffentlicht in: Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.) (2011)
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