Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Template

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 29 vom: 05. Aug., Seite 4364-70
1. Verfasser: Sun, Zhiwei (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Chen, Zhenbin, Zhang, Wenxu, Choi, Jaewon, Huang, Caili, Jeong, Gajin, Coughlin, E Bryan, Hsu, Yautzong, Yang, XiaoMin, Lee, Kim Y, Kuo, David S, Xiao, Shuaigang, Russell, Thomas P
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2015
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article directed self-assembly lamellar block copolymers nanoimprint photoresist templates salt complexes solvent vapor annealing