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Directed Self-Assembly of Poly(2-vinylpyridine)-b-polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) Triblock Copolymer with Sub-15 nm Spacing Line Patterns Using a Nanoimprinted Photoresist Temp...
par
Sun, Zhiwei
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2015)
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