Fabrication of ordered, large scale, horizontally-aligned si nanowire arrays based on an in situ hard mask block copolymer approach

Fabrication of ordered, large scale, horizontally-aligned si nanowire arrays based on an in situ hard mask block copolymer approach

© 2013 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 26(2014), 8 vom: 26. Feb., Seite 1207-16
1. Verfasser: Ghoshal, Tandra (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Senthamaraikannan, Ramsankar, Shaw, Matthew T, Holmes, Justin D, Morris, Michael A
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2014
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't block copolymers nanowires patterning photoelectron spectroscopy silicon
Online verfügbar Volltext