Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers

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Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 25(2013), 34 vom: 14. Sept., Seite 4690-5
Auteur principal: Gu, Weiyin (Auteur)
Autres auteurs: Zhao, Hui, Wei, Qingshuo, Coughlin, E Bryan, Theato, Patrick, Russell, Thomas P
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2013
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. block copolymers line patterns nanotemplates photocleavable self-assembly