Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers

Line patterns from cylinder-forming photocleavable block copolymers

Copyright © 2013 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 25(2013), 34 vom: 14. Sept., Seite 4690-5
1. Verfasser: Gu, Weiyin (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Zhao, Hui, Wei, Qingshuo, Coughlin, E Bryan, Theato, Patrick, Russell, Thomas P
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2013
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. block copolymers line patterns nanotemplates photocleavable self-assembly
Online verfügbar Volltext