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HfO2
Journal Article
5
Al2O3
1
Coulomb blockade
1
Pauli blocking
1
Review
1
Si-doping
1
plus ...
ZrO2
1
antiferroelectricity
1
atomic layer deposition
1
double layers
1
electromechanical response mechanisms
1
ferroelectric
1
ferroelectricity
1
field-effect transistors
1
graphene heterostructures
1
high-k dielectric
1
interface charge trapping
1
interfacial layers
1
nanocapacitor
1
neuromorphic computing
1
nonvolatile memory
1
operando electron holography
1
piezoresponse force microscopy (PFM)
1
processing-in-memory
1
transition metal dichalcogenides
1
moins ...
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1
Quantification of Interfacial Charges in Multilayered Nanocapacitors by Operando Electron Holography
par
Zhang, Leifeng
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2025)
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2
Revival of Ferroelectric Memories Based on Emerging Fluorite-Structured Ferroelectrics
par
Park, Ju Yong
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2023)
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3
Gate-Defined Quantum Confinement in CVD 2D WS2
par
Lau, Chit Siong
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2022)
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4
Solid-State Electrolyte-Gated Graphene in Optical Modulators
par
Rodriguez, Francisco J
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2017)
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5
Ferroelectricity in Si-doped HfO2 revealed a binary lead-free ferroelectric
par
Martin, Dominik
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2014)
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