Quantification of Interfacial Charges in Multilayered Nanocapacitors by Operando Electron Holography

© 2024 The Author(s). Advanced Materials published by Wiley‐VCH GmbH.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 37(2025), 4 vom: 31. Jan., Seite e2413691
1. Verfasser: Zhang, Leifeng (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Raza, Muhammad Hamid, Wu, Rong, Gruel, Kilian, Dubourdieu, Catherine, Hÿtch, Martin, Gatel, Christophe
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2025
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Al2O3 HfO2 interface charge trapping interfacial layers nanocapacitor operando electron holography