Quantification of Interfacial Charges in Multilayered Nanocapacitors by Operando Electron Holography

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Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 37(2025), 4 vom: 31. Jan., Seite e2413691
Auteur principal: Zhang, Leifeng (Auteur)
Autres auteurs: Raza, Muhammad Hamid, Wu, Rong, Gruel, Kilian, Dubourdieu, Catherine, Hÿtch, Martin, Gatel, Christophe
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2025
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Al2O3 HfO2 interface charge trapping interfacial layers nanocapacitor operando electron holography