Single-Atom-Layer Metallization of Plasmonic Semiconductor Surface for Selectively Enhancing IR-Driven Photocatalytic Reduction of CO2 into CH4

Single-Atom-Layer Metallization of Plasmonic Semiconductor Surface for Selectively Enhancing IR-Driven Photocatalytic Reduction of CO2 into CH4

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 37(2025), 4 vom: 01. Jan., Seite e2413931
1. Verfasser: Lu, Na (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Jiang, Xiaoyi, Zhu, Yongan, Yu, Linqun, Du, Shiwen, Huang, Jindou, Zhang, Zhenyi
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2025
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article CH4 selectivity CO2 reduction photocatalysis plasmonic semiconductor single‐atom‐layer metallization
Online verfügbar Volltext