Limits to Hole Mobility and Doping in Copper Iodide

© 2023 The Authors. Published by American Chemical Society.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society. - 1998. - 35(2023), 21 vom: 14. Nov., Seite 8995-9006
1. Verfasser: Willis, Joe (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Claes, Romain, Zhou, Qi, Giantomassi, Matteo, Rignanese, Gian-Marco, Hautier, Geoffroy, Scanlon, David O
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2023
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society
Schlagworte:Journal Article