Highly Scalable and Robust Mesa-Island-Structure Metal-Oxide Thin-Film Transistors and Integrated Circuits Enabled by Stress-Diffusive Manipulation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 32(2020), 40 vom: 21. Okt., Seite e2003276
1. Verfasser: Kim, Kyung-Tae (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Moon, Sanghee, Kim, Minho, Jo, Jeong-Wan, Park, Chan-Yong, Kang, Seung-Han, Kim, Yong-Hoon, Park, Sung Kyu
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2020
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article amorphous oxide thin-film transistors mesa-island structure scalability stress-diffusion ultraflexibility