Self-Templating Approaches to Hollow Nanostructures

© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 31(2019), 38 vom: 15. Sept., Seite e1802349
Auteur principal: Feng, Ji (Auteur)
Autres auteurs: Yin, Yadong
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2019
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Review Ostwald ripening dissolution-regrowth galvanic replacements hollow nanostructures self-templating surface-protected hollowing process the Kirkendall effect