Self-Templating Approaches to Hollow Nanostructures

© 2018 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 31(2019), 38 vom: 15. Sept., Seite e1802349
1. Verfasser: Feng, Ji (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Yin, Yadong
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2019
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Review Ostwald ripening dissolution-regrowth galvanic replacements hollow nanostructures self-templating surface-protected hollowing process the Kirkendall effect