Indium-Free Fully Transparent Electronics Deposited Entirely by Atomic Layer Deposition

Indium-Free Fully Transparent Electronics Deposited Entirely by Atomic Layer Deposition

© 2016 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 28(2016), 35 vom: 04. Sept., Seite 7736-44
1. Verfasser: Nayak, Pradipta K (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Wang, Zhenwei, Alshareef, Husam N
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2016
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article atomic layer deposition fully transparent thin-film transistors zinc oxide
Online verfügbar Volltext