Ultrasensitive Phototransistors Based on Few-Layered HfS2

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 47 vom: 16. Dez., Seite 7881-7
1. Verfasser: Xu, Kai (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Wang, Zhenxing, Wang, Feng, Huang, Yun, Wang, Fengmei, Yin, Lei, Jiang, Chao, He, Jun
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2015
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article HfS2 flake thickness metal contacts phototransistors responsivity