Back gated multilayer InSe transistors with enhanced carrier mobilities via the suppression of carrier scattering from a dielectric interface

© 2014 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 26(2014), 38 vom: 29. Okt., Seite 6587-93
1. Verfasser: Feng, Wei (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Zheng, Wei, Cao, Wenwu, Hu, PingAn
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2014
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't carrier scatter field-effect transistor indium selenide mobility two dimensional layer semiconductor