Coherent X-ray diffraction imaging and characterization of strain in silicon-on-insulator nanostructures
© 2014 The Authors. Published by WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.
Détails bibliographiques
| Publié dans: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 26(2014), 46 vom: 10. Dez., Seite 7747-63
|
|---|
| Auteur principal: |
Xiong, Gang
(Auteur) |
|---|
| Autres auteurs: |
Moutanabbir, Oussama,
Reiche, Manfred,
Harder, Ross,
Robinson, Ian |
|---|
| Format: | Article en ligne
|
|---|
| Langue: | English |
|---|
| Publié: |
2014
|
|---|
| Accès à la collection: | Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|
|---|
| Sujets: | Journal Article
coherent X-ray diffraction Imaging
nanowire
silicon-on-Insulator
strain
ultrathin layer |
|---|