Coherent X-ray diffraction imaging and characterization of strain in silicon-on-insulator nanostructures

Coherent X-ray diffraction imaging and characterization of strain in silicon-on-insulator nanostructures

© 2014 The Authors. Published by WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 26(2014), 46 vom: 10. Dez., Seite 7747-63
1. Verfasser: Xiong, Gang (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Moutanabbir, Oussama, Reiche, Manfred, Harder, Ross, Robinson, Ian
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2014
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article coherent X-ray diffraction Imaging nanowire silicon-on-Insulator strain ultrathin layer
Online verfügbar Volltext