Atomic layer deposition, characterization, and growth mechanistic studies of TiO2 thin films
Two heteroleptic titanium precursors were investigated for the atomic layer deposition (ALD) of titanium dioxide using ozone as the oxygen source. The precursors, titanium (N,N'-diisopropylacetamidinate)tris(isopropoxide) (Ti(O(i)Pr)3(N(i)Pr-Me-amd)) and titanium bis(dimethylamide)bis(isopropox...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1999. - 30(2014), 25 vom: 01. Juli, Seite 7395-404
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| 1. Verfasser: |
Kaipio, Mikko
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Blanquart, Timothee,
Tomczak, Yoann,
Niinistö, Jaakko,
Gavagnin, Marco,
Longo, Valentino,
Wanzenböck, Heinz D,
Pallem, Venkateswara R,
Dussarrat, Christian,
Puukilainen, Esa,
Ritala, Mikko,
Leskelä, Markku |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2014
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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