Mo/Si multilayer-coated amplitude-division beam splitters for XUV radiation sources
Amplitude-division beam splitters for XUV radiation sources have been developed and extensively characterized. Mo/Si multilayer coatings were deposited on 50 nm-thick SiN membranes. By changing the multilayer structure (periodicity, number of bilayers, etc.) the intensity of the reflected and transm...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 20(2013), Pt 2 vom: 15. März, Seite 249-57
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| 1. Verfasser: |
Sobierajski, Ryszard
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Loch, Rolf Antonie,
van de Kruijs, Robbert W E,
Louis, Eric,
von Blanckenhagen, Gisela,
Gullikson, Eric M,
Siewert, Frank,
Wawro, Andrzej,
Bijkerk, Fred |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2013
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Journal of synchrotron radiation
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| Schlagworte: | Journal Article
Research Support, Non-U.S. Gov't
Mo/Si
XUV
amplitude division
beam splitter
free-electron laser
multilayer |
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