Dry lithography of large-area, thin-film organic semiconductors using frozen CO(2) resists

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 24(2012), 46 vom: 04. Dez., Seite 6136-40
1. Verfasser: Bahlke, Matthias E (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Mendoza, Hiroshi A, Ashall, Daniel T, Yin, Allen S, Baldo, Marc A
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2012
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Coordination Complexes Tin Compounds Carbon Dioxide 142M471B3J Iridium 44448S9773 indium tin oxide 71243-84-0