Combinatorial optimization of a molecular glass photoresist system for electron beam lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 23(2011), 45 vom: 01. Dez., Seite 5404-8
1. Verfasser: Bauer, Wolfgang-Andreas C (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Neuber, Christian, Ober, Christopher K, Schmidt, Hans-Werner
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2011
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, Non-U.S. Gov't Alkynes Imidazoles Sulfonic Acids Phenol 339NCG44TV glycoluril U9H2W4OS13