Graphoepitaxial assembly of symmetric block copolymers on weakly preferential substrates

Graphoepitaxial assembly of symmetric block copolymers on weakly preferential substrates

Détails bibliographiques
Publié dans:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 22(2010), 38 vom: 08. Okt., Seite 4325-9
Auteur principal: Han, Eungnak (Auteur)
Autres auteurs: Kang, Huiman, Liu, Chi-Chun, Nealey, Paul F, Gopalan, Padma
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2010
Accès à la collection:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Sujets:Journal Article Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Polystyrenes Polymethyl Methacrylate 9011-14-7
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