Graphoepitaxial assembly of symmetric block copolymers on weakly preferential substrates

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 22(2010), 38 vom: 08. Okt., Seite 4325-9
1. Verfasser: Han, Eungnak (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Kang, Huiman, Liu, Chi-Chun, Nealey, Paul F, Gopalan, Padma
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2010
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Research Support, U.S. Gov't, Non-P.H.S. Polystyrenes Polymethyl Methacrylate 9011-14-7