Photoreactive chemisorbed monolayer suppressing polymer dewetting in thermal nanoimprint lithography

We describe reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography. The reactive monolayer inducing the graft reaction with thermoplastic poly(styrene) by ultraviolet light exposure was formed from 4-((10-mercaptodecyl)oxy)benzophenone on a gold thin film. The photochemical graft reaction suppr...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 25(2009), 12 vom: 16. Juni, Seite 6604-6
1. Verfasser:	Oda, Hirokazu (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Ohtake, Tomoyuki, Takaoka, Toshiaki, Nakagawa, Masaru
Format:	Online-Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2009
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article