Photoreactive chemisorbed monolayer suppressing polymer dewetting in thermal nanoimprint lithography
We describe reactive-monolayer-assisted thermal nanoimprint lithography. The reactive monolayer inducing the graft reaction with thermoplastic poly(styrene) by ultraviolet light exposure was formed from 4-((10-mercaptodecyl)oxy)benzophenone on a gold thin film. The photochemical graft reaction suppr...
Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 25(2009), 12 vom: 16. Juni, Seite 6604-6 |
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Format: | Online-Aufsatz |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
2009
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Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids |
Schlagworte: | Journal Article |
Online verfügbar |
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