The fabrication of gold Fresnel zone plates, by a combination of e-beam lithography and electrodeposition, with a 30 nm outermost zone width and a 450 nm-thick structure is described. The e-beam lithography process was implemented with a careful evaluation of applied dosage, tests of different bake-...
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 15(2008), Pt 2 vom: 07. März, Seite 170-5
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| 1. Verfasser: |
Chen, Y T
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Lo, T N,
Chiu, C W,
Wang, J Y,
Wang, C L,
Liu, C J,
Wu, S R,
Jeng, S T,
Yang, C C,
Shiue, J,
Chen, C H,
Hwu, Y,
Yin, G C,
Lin, H M,
Je, J H,
Margaritondo, G |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2008
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Journal of synchrotron radiation
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| Schlagworte: | Journal Article |
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