Sub-100 nm patterning with an amorphous fluoropolymer mold
A fluoropolymer mold is introduced and used to pattern sub-100 nm features with the characteristics that cause problems in patterning with a mold. The low surface energy and inertness, stiffness, and permeable nature of the mold material make it possible to pattern without surface treatment densely...
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1999. - 20(2004), 6 vom: 16. März, Seite 2445-8 |
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| Format: | Aufsatz |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
2004
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids |
| Schlagworte: | Journal Article |