Etching of Si(100)-2 x 1 with chlorine : Reaction pathways, energy anisotropies, and atomic-scale phenomena

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Physical review. B, Condensed matter. - 1985. - 52(1995), 11 vom: 15. Sept., Seite 8288-8294
1. Verfasser: Chander (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Goetsch, Aldao, Weaver
Format: Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 1995
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Physical review. B, Condensed matter
Schlagworte:Journal Article
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