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    Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography Toward Low-Cost Single-Digit-Nanometer Patterning
    Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography Toward Low-Cost Single-Digit-Nanometer Patterning
    par Ashby, Paul D
    Publié dans: Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.) (2015)
    Autres auteurs: “...Ogletree, D Frank...”

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  2. 2
    Revealing Optical Properties of Reduced-Dimensionality Materials at Relevant Length Scales
    Revealing Optical Properties of Reduced-Dimensionality Materials at Relevant Length Scales
    par Ogletree, D Frank
    Publié dans: Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.) (2015)

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  3. 3
    Interaction of water with self-assembled monolayers of alkylsilanes on mica
    Interaction of water with self-assembled monolayers of alkylsilanes on mica
    par Díez-Pérez, Ismael
    Publié dans: Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids (2004)
    Autres auteurs: “...Ogletree, D Frank...”
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