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Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography Toward Low-Cost Single-Digit-Nanometer Patterning
par
Ashby, Paul D
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Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2015)
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,
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...
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2
Revealing Optical Properties of Reduced-Dimensionality Materials at Relevant Length Scales
par
Ogletree
,
D
Frank
Publié dans:
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
(2015)
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3
Interaction of water with self-assembled monolayers of alkylsilanes on mica
par
Díez-Pérez, Ismael
Publié dans:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
(2004)
Autres auteurs:
“
...
Ogletree
,
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Frank
...
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