Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography : Toward Low-Cost Single-Digit-Nanometer Patterning

© 2015 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 27(2015), 38 vom: 14. Okt., Seite 5813-9
1. Verfasser: Ashby, Paul D (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Olynick, Deirdre L, Ogletree, D Frank, Naulleau, Patrick P
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2015
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Hansen solubility spheres atomic force microscopy extreme ultraviolet lithography photolysis resists