Unveiling Microscopic Mechanisms of Chemical Mechanical Polishing via Multi-Scale Theoretical Calculations

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Détails bibliographiques
Publié dans:Journal of computational chemistry. - 1984. - 46(2025), 22 vom: 15. Aug., Seite e70213
Auteur principal: Hu, Bin (Auteur)
Autres auteurs: Niu, Xinhuan, Zhou, Jiakai, Dong, Changxin, He, Chao, Li, Xinjie, Wu, Zheng, Li, Jiahui
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2025
Accès à la collection:Journal of computational chemistry
Sujets:Journal Article Review chemical mechanical polishing density functional theory microscopic mechanisms molecular activity molecular dynamics simulations quantum chemical calculations