Photoresist Development for 3D Printing of Conductive Microstructures via Two-Photon Polymerization

Photoresist Development for 3D Printing of Conductive Microstructures via Two-Photon Polymerization

© 2024 Wiley‐VCH GmbH.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 36(2024), 48 vom: 14. Nov., Seite e2409326
1. Verfasser: Zhou, Xin (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Liu, Xiaojiang, Gu, Zhongze
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2024
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article Review 3D printing conductive filler conductive microstructure photoresist two‐photon polymerization
Online verfügbar Volltext