All-Epitaxial Self-Assembly of Silicon Color Centers Confined Within Sub-Nanometer Thin Layers Using Ultra-Low Temperature Epitaxy

© 2024 The Author(s). Advanced Materials published by Wiley‐VCH GmbH.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - (2024) vom: 12. Okt., Seite e2408424
1. Verfasser: Aberl, Johannes (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Navarrete, Enrique Prado, Karaman, Merve, Enriquez, Diego Haya, Wilflingseder, Christoph, Salomon, Andreas, Primetzhofer, Daniel, Schubert, Markus Andreas, Capellini, Giovanni, Fromherz, Thomas, Deák, Peter, Udvarhelyi, Péter, Song, Li, Gali, Ádám, Brehm, Moritz
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2024
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article deterministic position control epitaxy quantum light sources self‐assembly silicon color centers