Inkjet Printing Photoresist with Ultralow Viscosity on Silicon Wafers for Uniform Coating
Inkjet printing is introduced into the photoresist coating process for uniform photoresist film formation on silicon wafers with the in-house inkjet experimental prototype. The optimization of a dual negative voltage waveform is proposed to achieve stable droplet jetting for the ultralow viscosity (...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1985. - 40(2024), 21 vom: 28. Mai, Seite 11125-11133
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| 1. Verfasser: |
Wang, Xiukun
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Yang, Fan,
Guo, Guanshun,
Li, Jingjun,
Sun, Yadong,
Zhang, Lei |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2024
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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