Evaluation of the X-ray/EUV Nanolithography Facility at AS through wavefront propagation simulations

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 31(2024), Pt 3 vom: 01. Mai, Seite 485-492
1. Verfasser: Knappett, Jerome B M (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Haydon, Blair, Cowie, Bruce C C, Kewish, Cameron M, van Riessen, Grant A
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2024
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Journal of synchrotron radiation
Schlagworte:Journal Article extreme ultraviolet lithography interference lithography soft X-ray lithography synchrotron beamline wavefront propagation