Evaluation of the X-ray/EUV Nanolithography Facility at AS through wavefront propagation simulations

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Détails bibliographiques
Publié dans:Journal of synchrotron radiation. - 1994. - 31(2024), Pt 3 vom: 01. Mai, Seite 485-492
Auteur principal: Knappett, Jerome B M (Auteur)
Autres auteurs: Haydon, Blair, Cowie, Bruce C C, Kewish, Cameron M, van Riessen, Grant A
Format: Article en ligne
Langue:English
Publié: 2024
Accès à la collection:Journal of synchrotron radiation
Sujets:Journal Article extreme ultraviolet lithography interference lithography soft X-ray lithography synchrotron beamline wavefront propagation