Analysis of the Pattern Shapes Obtained By Micro/Nanospherical Lens Photolithography
Micro/nanospherical lens photolithography (SLPL) constitutes an efficient and precise micro/nanofabrication methodology. It offers advantages over traditional nanolithography approaches, such as cost-effectiveness and ease of implementation. By using micrometer-sized microspheres, SLPL enables the p...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1985. - 39(2023), 40 vom: 10. Okt., Seite 14328-14335
|
|---|
| 1. Verfasser: |
Yu, Guoxu
(VerfasserIn) |
|---|
| Weitere Verfasser: |
Ma, Yuan,
Li, Xuan,
Yu, Bowen,
Zhang, Xinping,
Zhang, Xuanhe,
Chen, Yiqing,
Liang, Zhenwei,
Pang, Zuobo,
Weng, Ding,
Chen, Lei,
Wang, Jiadao |
|---|
| Format: | Online-Aufsatz
|
|---|
| Sprache: | English |
|---|
| Veröffentlicht: |
2023
|
|---|
| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
|
|---|
| Schlagworte: | Journal Article |
|---|