How Colloidal Lithography Limits the Optical Quality of Plasmonic Nanohole Arrays

Colloidal lithography utilizes self-assembled particle monolayers as lithographic masks to fabricate arrays of nanostructures by combination of directed evaporation and etching steps. This process provides complex nanostructures over macroscopic areas in a simple, convenient, and parallel fashion wi...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1985. - 39(2023), 14 vom: 11. Apr., Seite 5222-5229
1. Verfasser:	Goerlitzer, Eric S A (VerfasserIn)
Weitere Verfasser:	Zhan, Meichen, Choi, Sukyung, Vogel, Nicolas
Format:	Online-Aufsatz
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2023
Zugriff auf das übergeordnete Werk:	Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
Schlagworte:	Journal Article