Bimolecular Reaction Mechanism in the Amido Complex-Based Atomic Layer Deposition of HfO2

© 2023 The Authors. Published by American Chemical Society.

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society. - 1998. - 35(2023), 2 vom: 24. Jan., Seite 529-538
1. Verfasser: D'Acunto, Giulio (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Tsyshevsky, Roman, Shayesteh, Payam, Gallet, Jean-Jacques, Bournel, Fabrice, Rochet, François, Pinsard, Indiana, Timm, Rainer, Head, Ashley R, Kuklja, Maija, Schnadt, Joachim
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2023
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Chemistry of materials : a publication of the American Chemical Society
Schlagworte:Journal Article