Electrochemical Construction of Edge-Contacted Metal-Semiconductor Junctions with Low Contact Barrier

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.). - 1998. - 34(2022), 31 vom: 01. Aug., Seite e2202484
1. Verfasser: Ping, Xiaofan (VerfasserIn)
Weitere Verfasser: Liu, Weigang, Wu, Yueyang, Xu, Guanchen, Chen, Fengen, Li, Guangtao, Jiao, Liying
Format: Online-Aufsatz
Sprache:English
Veröffentlicht: 2022
Zugriff auf das übergeordnete Werk:Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
Schlagworte:Journal Article 2D electrodeposition field-effect transistors low contact barrier metal-semiconductor junctions