Oxidation Mechanisms of Hafnium Overlayers Deposited on an Si(111) Substrate
The oxidation mechanism of hafnium overlayers on an Si(111) substrate [Hf-Si(111), including the outermost metallic Hf overlayers and interfacial Hf silicides (HfSi and HfSi4)] was investigated via high-resolution synchrotron radiation X-ray photoelectron spectroscopy (SR-XPS) of Hf 4f5/2,7/2, Si 2p...
Ausführliche Beschreibung
Bibliographische Detailangaben
| Veröffentlicht in: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids. - 1992. - 38(2022), 8 vom: 01. März, Seite 2642-2650
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| 1. Verfasser: |
Kakiuchi, Takuhiro
(VerfasserIn) |
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| Weitere Verfasser: |
Matoba, Tomoki,
Koyama, Daisuke,
Yamamoto, Yuki,
Yoshigoe, Akitaka |
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| Format: | Online-Aufsatz
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| Sprache: | English |
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| Veröffentlicht: |
2022
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| Zugriff auf das übergeordnete Werk: | Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids
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| Schlagworte: | Journal Article |
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